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新聞資訊
靶材真空噴涂生產線的技術核心及優(yōu)勢
2023-11-28
我公司專注于高溫難熔融材料的真空噴涂技術，打破技術壁壘和難題，自主研發(fā)出具有世界先進水平的靶材真空噴涂生產線，我公司生產的靶材，經國家有色金屬及電子材料分析測試中心檢測，各項指標均達到和超過世界高端靶材的水平;經國內多家知名鍍膜企業(yè)使用，反應良好。我公司靶材真空噴涂生產線和靶材產品具有如下技術核心與創(chuàng)新點：一、技術核心：1、 我公司采用了自主研發(fā)的超高溫、大功率等離子噴涂槍，更為有效的融熔了高溫難熔金屬、陶瓷粉末材料，焰流速更快，使靶材的晶界結合更致密、晶粒更細、孔隙更少、密度更高。
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什么是濺射靶材？
2023-11-28
?在濺射靶材的應用領域，半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度和內部微觀結構設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產過程中的關鍵技術，經過長期實踐才能生產出符合工藝要求的產品。因此，半導體芯片對濺射靶材的要求高，價格與半導體芯片相比，飛機顯示器和太陽能電池對濺射靶材的純度和技術要求略低，但隨著靶材尺寸的增加，對濺射靶材的焊接結合率和平整度提出了更高的要求。此外，濺射靶材需要安裝在濺射機臺內完成濺射過程，濺射機臺專用性強，對濺射靶材的形狀、尺寸和精度也設定了諸多限制。?
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物理氣相沉積（PVD）種類、特點及應用介紹
2023-05-09
什么是物理氣相沉積（PVD）？物理氣相沉積（Physicalvapordeposition，PVD）是一種在真空條件下采用物理方法，將固體或液體材料表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術。物理氣相沉積技術不僅可以沉積金屬膜、合金膜?，還可以沉積化合物?、陶瓷?、半導體?、聚合物膜等，是具有廣泛應用前景的新材料制造技術。采用此技術制備的超硬薄膜不僅具有超高硬度，且超薄、耐高溫、
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常見的熱處理概念
2022-08-30
1.正火：將鋼材或鋼件加熱到臨界點Ac3或Acm以上的適當溫度保持一定時間后在空氣中冷卻，得到珠光體類組織的熱處理工藝。2.退火：將亞共析鋼工件加熱至Ac3以上30—50℃，保溫一段時間后，隨爐緩慢冷卻（或埋在砂中或石灰中冷卻）至500℃以下在空氣中冷卻的熱處理工藝。3.固溶熱處理：將合金加熱至高溫單相區(qū)恒溫保持，使過剩相充分溶速冷卻，以得到過飽和固溶體的熱處理工藝。4.時效：合金經固溶熱處理或冷塑性形變后，在室溫放置或稍高于室溫保持時，其性能隨時間而變化的現象。5.固溶處理：使合金中各種相充分
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熱噴涂技術的研究現狀與發(fā)展趨勢
2022-08-09
摘?要：熱噴涂技術由于具有極大優(yōu)勢而被廣泛的應用在工程領域中。主要講述熱噴涂技術的研究現狀、發(fā)展趨勢，包括主火焰噴涂技術、等離子噴涂技術、超音速火焰噴涂技術、電弧噴涂技術、超音速電弧噴涂技術以及冷噴涂技術等，并介紹這些熱噴涂技術的研究發(fā)展與應用。?關鍵詞：熱噴涂技術；研究進展；超音速火焰噴涂技術；等離子噴涂技術；冷噴涂技術熱噴涂技術是一種將涂層材料(粉末或絲材)送入某種熱源(電弧、燃燒火焰、等離子體等)中熔化，并利用高速氣流將其噴射到基體材料表面形成涂層的?工藝[
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